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四氟化碳僅僅只是一種超低溫冷媒嗎？
CF4，中文名稱四氟化碳、四氟甲烷，英文名稱Carbon Tetrafluoride or Tetrafluoromethane，分子式CF4。也被稱為R-14制冷劑，別名R14、氟利昂14、PFC-14，商品名稱有Freon 14等。 四氟化碳氣體理化特性 在常溫下，四氟甲烷是無色、無臭、不燃，不溶于水的可壓縮性氣體。沸點：-128℃，熔點：-183.6℃。液體密度（-130℃）1.613g/cm3，臨界溫度-45.67℃，臨界壓力3.74Mpa，蒸氣壓（-150.7更多 +
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四氟化碳的應(yīng)用
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。 在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。 &nb更多 +
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甲烷、丙烯、丙烷等氣體氣相反應(yīng)和表面反應(yīng)的相互影響
參與熱解碳化學(xué)氣相沉積的烴類氣體主要有甲烷、乙烯、丙烯、丙烷等。純度要求一般大于99.9%。烴類氣體在氣相熱解條件下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成芳香烴和聚合芳香烴，隨著生成物相對分子質(zhì)量的逐漸增大，最終將導(dǎo)致固體碳顆粒的生成，并在顆粒表面發(fā)生復(fù)雜的表面化學(xué)反應(yīng)。 如果甲烷等烴類氣體熱解過程中存在外來的固體表面，甲烷等氣體分子將碰撞，繼而產(chǎn)生表面吸附，使體系能量降低。氣相反應(yīng)中的分子和生產(chǎn)的活性基團因此將不可避免地參與表面反應(yīng)，在加快甲烷等氣體分子裂解的同時更多 +
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氦氣的純度及雜質(zhì)
氦氣純度 1、工業(yè)氦 項目名稱指標 氦氣純度：≥99% 氖（氫）、氧（氬）、氮、甲烷總含量，%≤1 水分含量，露點，≤-43℃ 2、純氦 項目名稱指標 優(yōu)等品一等品合格品 氦氣純度，%≥99.99599.99399.99 氖含量，ppm≤152540 氫含量，ppm≤357 氧（氬）含量，ppm≤355 氮含量，ppm≤101725 一氧化碳，ppm≤111 二氧化碳，ppm≤111 甲烷量，ppm≤111更多 +
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甲烷氣體隨著全球變暖會有什么作用
甲烷是一種強大的溫室氣體，也是導(dǎo)致全球變暖的罪魁禍首之一。在100年的時間跨度里，這種溫室氣體的吸熱能力是二氧化碳的28倍。在過去的3個世紀里，排放到大氣中的甲烷增加了大約150%，但是研究人員很難確定這些排放的源頭。 而且隨著地球變暖，科學(xué)家擔心大量甲烷將從北極永久凍土層和深海釋放出來，使地球進一步變暖。但兩項新研究似乎給人們帶來了希望：首先，遠古時代的大量甲烷被快速釋放是不太可能的。第二，人類似乎是現(xiàn)代甲烷排放的一個更大的來源——這意味著人們對大氣中有多更多 +
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甲烷
甲烷分子式CH4。最簡單的有機化合物。甲烷是沒有顏色、沒有氣味的氣體，沸點-161.4℃，比空氣輕，它是極難溶于水的可燃性氣體。甲烷和空氣成適當比例的混合物，遇火花會發(fā)生爆炸?；瘜W(xué)性質(zhì)相當穩(wěn)定，跟強酸、強堿或強氧化劑（如KMnO4）等一般不起反應(yīng)。在適當條件下會發(fā)生氧化、熱解及鹵代等反應(yīng)。甲烷在自然界分布很廣，是天然氣、沼氣、坑氣及煤氣的主要成分之一。它可用作燃料及制造氫、一氧化碳、炭黑、乙炔、氫氰酸及甲醛等物質(zhì)的原料。 413kJ/mol、109°28′，甲烷分子是正四面體空間構(gòu)型，上面的結(jié)構(gòu)式只是表示分子里各原更多 +
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氮氣在天然氣輸送中的應(yīng)用
氮氣在天然氣(主要成份甲烷)輸送中的應(yīng)用 天然氣（主要成分為甲烷 CH4）通常被冷卻到大約 - 163°C (?260°F) 并轉(zhuǎn)化為液態(tài)形式。因為在常壓下，液化天然氣 (LNG) 的體積僅為氣態(tài)天然氣體積的 1/600。 減小天然氣體積可以實現(xiàn)更有效的長途輸送，并通過特別設(shè)計的低溫海運船只（LNG船舶）輸送到?jīng)]有輸氣管道的地方。輸入的液化天然氣通常經(jīng)過近海重新氣化終端將其重更多 +
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半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈之電子特種氣體行業(yè)深度研究：四氟甲烷
四氟甲烷(CF4)是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻 璃等材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、 控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應(yīng)用。由于它的化學(xué)穩(wěn)定性極 強，CF4 還可用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。當今超大規(guī)模集成電路所用電子氣體的特點和發(fā)展趨勢是超純、超 凈和多品種、多規(guī)模，各國為推動本國微電子工業(yè)的發(fā)展，越來越重視發(fā)展特種電子氣體的生產(chǎn)技術(shù)。就目前 而言，CF4更多 +
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