双性文h一受多攻,欧美激情乱人伦,交管12123随手拍

: 5G時(shí)代，鍺烷市場(chǎng)需求凸顯

鍺烷（GeH4）和乙鍺烷（Ge2H6）均為電子工業(yè)用的關(guān)鍵氣體材料，對(duì)整個(gè)行業(yè)的可持續(xù)發(fā)展起著重要的支撐配套作用。鍺烷主要用于半導(dǎo)體制程中在硅片上沉積SiGe（硅鍺）層。硅鍺材料的載流子遷移率高、能帶寬度隨Ge的組分變化而連續(xù)可調(diào)，因此,硅鍺材料在微電子和光電子方面有重大的應(yīng)用價(jià)值。5G時(shí)代，光通信芯片崛起，光通信傳輸芯片主流采用SiGe工藝來(lái)滿足其對(duì)高性能和低功耗的要求。國(guó)家發(fā)改委《增強(qiáng)制造業(yè)核心競(jìng)爭(zhēng)力三年行動(dòng)計(jì)劃(2018-2020年)》曾對(duì)鍺烷純度和裝置規(guī)模就提出過(guò)具體要求。鍺烷也用于紅外光學(xué)材料、航天器空間
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: 電子級(jí)氯化氫市場(chǎng)迎來(lái)重大機(jī)遇

電子級(jí)氯化氫屬于國(guó)家重點(diǎn)鼓勵(lì)發(fā)展類項(xiàng)目，隨著微電子工業(yè)向著大尺寸、高集成化、高均勻性和高完整性方向的飛速發(fā)展，對(duì)廣泛用于硅外延片和外延機(jī)座腐蝕的電子級(jí)氯化氫也有了新的要求。除了應(yīng)具有99.999%以上的純度，還要求氯化氫的THC、H2O和金屬離子等有機(jī)雜質(zhì)的含量越低越好。硅外延片下游終端應(yīng)用廣泛，近年隨著新興技術(shù)的出現(xiàn)其下游應(yīng)用不斷拓寬，新興應(yīng)用市場(chǎng)不斷涌現(xiàn)。通信、計(jì)算機(jī)、消費(fèi)電子、光伏、智能電網(wǎng)、醫(yī)療電子等終端應(yīng)用領(lǐng)域的快速發(fā)展以及人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等新興產(chǎn)業(yè)的崛起極大地促進(jìn)了集
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: 國(guó)內(nèi)電子氣體發(fā)展趨勢(shì)了解下

電子特氣是工業(yè)氣體中附加值較高的品種，與傳統(tǒng)工業(yè)氣體的區(qū)別在于純度更高(如高純氣體)或者具有特殊用途(如參與化學(xué)反應(yīng))，是極大規(guī)模集成電路、平面顯示器件、化合物半導(dǎo)體器件、太陽(yáng)能電池、光纖等電子工業(yè)生產(chǎn)中不可或缺的基礎(chǔ)和支撐性材料之一，相關(guān)下游領(lǐng)域的快速發(fā)展將帶動(dòng)未來(lái)特種氣體的增量需求。行業(yè)壁壘和國(guó)內(nèi)電子特氣現(xiàn)狀：電子特氣對(duì)氣源和供應(yīng)系統(tǒng)有著苛刻的要求，屬于典型的技術(shù)密集型行業(yè)。技術(shù)工藝、設(shè)備資質(zhì)、客戶認(rèn)證、市場(chǎng)服務(wù)共同構(gòu)成了電子特氣的四大行業(yè)壁壘。其中，氣體純化和氣體精度是氣體制造的兩大技術(shù)壁壘。
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: 高純氫氣的應(yīng)用領(lǐng)域

氫氣有著廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域，其中，作為一種重要的石油化工原料是用量大的，用于生產(chǎn)合成甲醇、氨及石油煉制過(guò)程的加氫。氫氣不僅廣泛應(yīng)用于冶金工業(yè)、電子工業(yè)、食品加工、浮法玻璃、精細(xì)化工和有機(jī)合成，在航空航天工業(yè)等領(lǐng)域也有著廣泛應(yīng)用。氫作為能源，是未來(lái)發(fā)電、電動(dòng)汽車用燃料電池的燃料。石油化工：氫氣是現(xiàn)代煉油工業(yè)和化學(xué)工業(yè)的基本原料之一，在廣泛范圍內(nèi)氫以多種形式用于石油化學(xué)工業(yè)。我國(guó)的合成氨生產(chǎn)的主要原料是煤制氣、天然氣、石腦油和重油，一個(gè)1000t/d規(guī)模的合成氨廠，每生產(chǎn)1t氨氨約需氫氣336m3。與合
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: 存儲(chǔ)芯片需求增長(zhǎng)，2025年電子級(jí)稀有氣體用量或增加至850ML

在信息時(shí)代的飛速發(fā)展中，海量數(shù)據(jù)的處理不僅對(duì)于芯片算力提出越來(lái)越高的要求，不斷累積的數(shù)據(jù)也需要更大、更快、延時(shí)更低的存儲(chǔ)介質(zhì)。電子工業(yè)中氪氙氣體主要用于3D NAND存儲(chǔ)器高深寬比刻蝕工藝，從而實(shí)現(xiàn)多層堆疊結(jié)構(gòu)。預(yù)計(jì)2025年全球電子級(jí)稀氪氖氙氣體用量將增加至850ML，較2020年增長(zhǎng)29%。激光氣體主要用于電子工業(yè)中激光退火和光刻氣。光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備，光刻定義了晶體管尺寸，光刻產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同發(fā)展是光刻機(jī)突破關(guān)鍵。與之配套的光刻膠、光刻氣體、光罩等半導(dǎo)體
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: 氪氣最新用途及市場(chǎng)|紐瑞德氣體

氪氣具有密度高、導(dǎo)熱系數(shù)小、透射率大等性質(zhì)。廣泛應(yīng)用于電子工業(yè)和電光源工業(yè)。紐瑞德高純氪氣供應(yīng)，咨詢熱線：400-6277-838 氪具有比氬更大的相對(duì)分子質(zhì)量和小的導(dǎo)熱系數(shù)，使它成為優(yōu)良的充填氣。用氪氣充填的等有：白熾燈、熒光燈、閃光弧光燈、碘燈等。氪燈比同功率的氟燈省電20%~25%，壽命長(zhǎng)2~3倍。長(zhǎng)壽命氪燈體積小，對(duì)礦井作業(yè)很適用。實(shí)驗(yàn)室里用到的連續(xù)紫外光等也可以用氪氣充填。氪還能制成不需要電能的原子燈，用于無(wú)可用電源的工作場(chǎng)所。氪燈的透射能力特別強(qiáng)，可用于夜戰(zhàn)中的越野戰(zhàn)車做照射燈。在飛機(jī)
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: 常見的電子混合氣體組分|紐瑞德特氣

電子工業(yè)用氣體統(tǒng)稱為電子氣。在大規(guī)模集成電路（LSI）、超大規(guī)模集成電路（VLSI）、半導(dǎo)體和電子器件生產(chǎn)與加工過(guò)程中，電子氣主要用于氣相外延生長(zhǎng)、化學(xué)氣相淀積、摻雜（雜質(zhì)擴(kuò)散）、蝕刻、離子注入、濺射、退火、系統(tǒng)加壓、潔凈吹掃、吸氣覆蓋、氧化和還原等工藝。其中部分氣體直接作為半導(dǎo)體源，如硅源、硼源、磷源和CVD 源等等。常見的幾種電子混合氣體： Oxygen in Tetrafluoromethane 4% O2/CF4 8% O2/CF4 1
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: 常見的5種電子混合氣體|紐瑞德特氣

氣體在半導(dǎo)體工業(yè)和微電子工業(yè)中扮演著不可或缺的角色，其中除了大家熟知的一些大宗氣體以外，還有一個(gè)重要的分支:電子混合氣體。電子混合氣體廣泛用于大規(guī)模集成電路（L.S.I）超大規(guī)模集成電路（V.L.S.I）和半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中，主要用于氣相外延（生成）、化學(xué)氣相淀積、摻雜（雜質(zhì)擴(kuò)散）、各類蝕刻和離子注入等工藝中。根據(jù)不同用途又可以將電子混合氣體分為：晶體生長(zhǎng)氣、熱氧化氣、外延氣、摻雜氣、擴(kuò)散氣、化學(xué)氣相淀積氣、噴射氣、離子注入氣、等離子蝕刻氣、載氣/吹洗氣、光刻氣、退火氣、焊
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: 二氧化碳的八大用途！

二氧化碳我們常常聽說(shuō)，它是一種常見的溫室氣體，常溫常壓下是一種無(wú)色無(wú)味無(wú)嗅的氣體。二氧化碳重要用途是：用于電子工業(yè)，醫(yī)學(xué)研究及臨床診斷、二氧化碳激光器、檢測(cè)儀器的校正氣及配制其它特種混臺(tái)氣，在聚乙烯聚合反應(yīng)中則用作調(diào)節(jié)劑。除了上述幾大用途外，二氧化碳還常被用于以下幾大行業(yè)： 1、食品和飲料—二氧化碳飲料的碳酸化。作為一種天然的防菌物質(zhì)，還能用于延長(zhǎng)乳制品的貨架時(shí)間，保證口味和質(zhì)地，減少天然或人工防腐劑的使用。其它應(yīng)用包括：食品冷凍和冷卻，包裝，混合和攪拌冷卻，配料冷卻和運(yùn)輸
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: 電子特氣最全種類大全|紐瑞德電子特氣

電子特種氣體是特種氣體的一個(gè)重要分支，是集成電路（IC）、顯示面板（LCD、OLED）、光伏能源、光纖光纜等電子工業(yè)生產(chǎn)中不可或缺的關(guān)鍵性原材料，廣泛應(yīng)用于薄膜、光刻、刻蝕、摻雜、氣相沉積、擴(kuò)散等工藝，其質(zhì)量對(duì)電子元器件的性能有重要影響。氣體的產(chǎn)品種類豐富，電子元器件在其生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)氣體產(chǎn)品存在多樣化需求。就集成電路制造過(guò)程中需要的高純特種氣體和混合氣體的種類超過(guò) 50 種，且每一種工藝步驟中都會(huì)用到特定的氣體。此外，在顯示面板、LED、太陽(yáng)能電池片等器件的制造中的不同工藝環(huán)節(jié)均
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