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我國自主研發(fā)的氪、氙分離精制裝置大大提高了氪、氙產(chǎn)量
氪氣和氙氣作為稀有氣體在空氣中的含量比氦氣、氖氣在空氣中含量要低很多，氪、氙在空氣中含量僅為1.14 ppm和0.086 ppm。已目前的技術(shù)來說，稀有氣體的提取只能通過空分裝置，暫無其他方法。 隨著科技的快速發(fā)展，稀有氣體被廣泛應(yīng)用于國防建設(shè)、科研以及人們?nèi)粘Ｉ钪小Ｒ噪礆鉃槔?font color='red'>電子工業(yè)、電光源工業(yè)及氣體激光器和等離子流中都離不開氪氣。在歐美國家，氪氣早已用作充填白幟燈。氪燈節(jié)省電能，使用壽命長、發(fā)光率高、體積小，如長壽氪燈是礦井的重要光源；用氪氣還能制成不需要電能的原子燈；氪燈的透更多 +
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四氟化碳是什么？有什么用？
四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無機化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩(wěn)定，但是需要避免接觸強氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃氣體，如果遇到高熱后會造成容器內(nèi)壓增大，有開裂、爆炸危險。通常常溫下只會與液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。 四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，可廣泛用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等更多 +
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氬氣無毒，對人有沒有沒害？
高純氬氣、超純氬氣是現(xiàn)在工業(yè)上應(yīng)用很廣的稀有氣體。它的性質(zhì)非常不活潑，既不能燃燒，也不助燃。在飛機制造、造船、原子能工業(yè)和機械工業(yè)部門，對特別金屬，例如鋁、鎂、銅及其合金和不銹鋼在焊接時，往往用氬作為焊接維護氣，防止焊接件被空氣氧化或氮化。 在金屬冶煉方面，氧、氬吹煉是出產(chǎn)優(yōu)質(zhì)鋼的重要措施，每煉1t鋼的氬氣消耗量為1～3m3。此外，對鈦、鋯、鍺等特別金屬的冶煉，以及電子工業(yè)中也需求用氬作維護氣。 在空氣中含有的0.932%的氬，沸點在氧、氮之間，在空分設(shè)備上塔的中部含量最高，叫氬餾分。在別離氧、氮的更多 +
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四氟化碳、三氟甲烷、六氟丁二烯電子行業(yè)中重要的蝕刻氣體
蝕刻是電子行業(yè)重要工藝，蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體, 通常多為氟化物氣體, 例如四氟化碳、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。 作為新一代環(huán)保電子氣體，電子級C4F6成為集成電路IC芯片等制造時必不可少的刻蝕氣體，其GWP值簡直為0，而且能完結(jié)納米級溝槽的加工，成為電子工業(yè)領(lǐng)域內(nèi)一把神奇的“刻刀”，比γ刀還γ！ 2015年，浙化院特種氣體研發(fā)團隊提出自主開發(fā)新一代含氟電子氣體C4F6的提純技能。 今天紐小編就帶大家一起看看C4F6是怎樣更多 +
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電子氣體國產(chǎn)化，為何難以實現(xiàn)？
廣義的“電子氣體”指電子工業(yè)生產(chǎn)中使用的氣體，是重要原材料之一；狹義的“電子氣體”特指半導體行業(yè)用的氣體。電子氣體在電子產(chǎn)品制程工藝中廣泛應(yīng)用于薄膜、蝕刻、摻雜等工藝，被稱為半導體、平面顯示等材料的“糧食”和“源”。 在硅片制造廠，一個硅片需要兩到三個月的工藝流程，完成450道或更多的工藝步驟才能得到有各種電路圖案的芯片。這個過程包括外延、成膜、摻雜、蝕刻、清洗、封裝等諸多工序，需要的高純電子化學氣體及更多 +
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同位素示蹤法在各行業(yè)的應(yīng)用
工業(yè)中的應(yīng)用 在工業(yè)活動中，示蹤原子為使用多種高性能的檢測方法和生產(chǎn)過程自動控制方法提供了可能性，克服了傳統(tǒng)檢測方法難以完成甚至無法完成的難題。如石油工業(yè)中采用放射性核素示蹤微球等方法測繪注水井吸水剖面，為評價地層，調(diào)整注水量的分配，實現(xiàn)石油的增產(chǎn)和穩(wěn)定做出了貢獻。在機械工業(yè)中可用氪（85Kr）化技術(shù)進行機械磨損研究，測量一些其他方法不能完成的運動部件的最高工作溫度和溫度分布。此外，這一靈敏度很高的85Kr檢漏方法也在機械工業(yè)產(chǎn)品、機械零部件和金屬真空系統(tǒng)的檢漏，以及電子工業(yè)半導體更多 +
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四氟化碳在微電子行業(yè)的應(yīng)用
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。 四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，鋁合金門窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控更多 +
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液氮在電子工業(yè)中的應(yīng)用
液氮是低溫-196℃的液體，是由占用空氣成分百分之七十多的氮氣得來的。惰性、無色、無毒，易揮發(fā)，使用范圍非常廣。液氮低溫易揮發(fā)，所以一般儲存在專用容器—液氮罐中。 1、電子元件制造與檢測 液氮是一種更快和更有效的屏蔽和測試電子元器、電路板的方法。 2、低溫球磨技術(shù) 低溫行星式球磨機是將液氮氣體源源不斷地輸入裝有保溫罩的行星式球磨機中，這些冷氣將高速旋轉(zhuǎn)的球磨罐產(chǎn)生的熱量及時更多 +
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電子工業(yè)中如何正確選用高純氣體
隨著科學技術(shù)向高、精、尖發(fā)展，對各種原材料“純度”的要求開始越來越高。但是，高純氣體所能提供的數(shù)量通?？偸禽^少的，同時，價格昂貴。因此，如何正確地恰如其分地提出對原料氣的純度要求，如何選用高純氣就成為一個值得討論的問題。 通常，人們常用百分濃度來轟示氣體的純度，即所謂用幾個“9”字的表示法。例如，某種氣體濃度為99．9％，表示含有0.1% 的雜質(zhì)(即雜質(zhì)含量為1000ppm)。按通常的概念，顯然，濃度為99.995％的氣體比99．99更多 +
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氣相色譜法測定高純四氟化碳中三氟化氮雜質(zhì)的方法
四氟化碳這種含氟有機化合物作為蝕刻二氧化硅和氧化硅這樣的介質(zhì)材料已成熟運用多年，也是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體。其混合氣體即四氟化碳和氧氣的混合、與氫的混合均在硅系列、薄膜蝕刻領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。同時在低溫下可作為低溫流體用，也在制冷、體絕緣、氟化劑、表面處理劑和激光氣體泄露檢驗劑有一定的應(yīng)用空間。四氟化碳的廣泛應(yīng)用，其產(chǎn)品質(zhì)量要求也相應(yīng)的較為明確、規(guī)范。目前行業(yè)內(nèi)較為成熟的分析方法主要檢測四氟化碳中的氧（O2）、氮（N2）、一氧化碳（CO）、二氧化碳（CO2）、六氟化硫（SF6）、水（H2O）更多 +
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