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碳?xì)浠衔餁怏w應(yīng)用
CH4；燃料，標(biāo)準(zhǔn)氣，校正氣，太陽能電池，非晶硅膜，乙烴、氫氣、合成氨、二硫化碳等生產(chǎn)原料。 C3H8；有機合成，燃料、溶劑，制造乙烯、丙烯等，冷凍劑，標(biāo)準(zhǔn)氣，校正氣，等離子干刻。 C2H6；蝕刻氣，標(biāo)準(zhǔn)氣，校正氣，冶金工業(yè)熱處理，制備乙烯等原料，燃料，冷凍劑。 C2H2；金屬的焊接和切割，有機合成，原子吸收光譜，標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、合成橡膠、照明。 C2H4；標(biāo)準(zhǔn)氣，校正氣，生產(chǎn)聚乙烯等原料，香蕉水果等成熟劑，冷凍劑，焊接和切割，合成纖維。更多 +
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氫化物氣體應(yīng)用
H2Se；實驗用，摻雜氣，制備硒化物，擴散、離子注入。 H2S；化學(xué)分析，金屬的精制，各種工業(yè)試劑、農(nóng)藥、醫(yī)藥品、螢光體、電發(fā)光、半導(dǎo)體光電曝光儀，硫及各種硫化物的制備，有機合成的還原劑、標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、等離子干刻。 AsH3，擴散、外延生長，離子注入，化合物半導(dǎo)體用氣體，化學(xué)氣相沉積。 PH3；縮合催化劑，聚合引發(fā)劑，磷的有機化合物制備，發(fā)生氣體，外延生長、擴散、離子注入，蝕刻，化學(xué)氣相沉積，糧倉的殺蟲藥。 NH3；氮肥，銨鹽，硝酸，尿素，丙烯腈，藥品染料，金屬更多 +
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半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈之電子特種氣體行業(yè)深度研究：四氟甲烷
四氟甲烷(CF4)是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻 璃等材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、 控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應(yīng)用。由于它的化學(xué)穩(wěn)定性極 強，CF4 還可用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。當(dāng)今超大規(guī)模集成電路所用電子氣體的特點和發(fā)展趨勢是超純、超 凈和多品種、多規(guī)模，各國為推動本國微電子工業(yè)的發(fā)展，越來越重視發(fā)展特種電子氣體的生產(chǎn)技術(shù)。就目前 而言，CF4更多 +
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氪氣價格飆漲是否會終結(jié)于此？
隨著科技進(jìn)步，氪氣因其特殊的物理特性被廣泛應(yīng)用于電子、醫(yī)學(xué)、中空玻璃及航空航天等領(lǐng)域。氪氣分離提取工藝要求較高，價格堪比黃金，因此又被稱為“黃金氣體”。近年來，氪氣市場價格飆漲的主要原因離不開供應(yīng)用端需求的拉動，尤其是航空和半導(dǎo)體領(lǐng)域需求增量較為顯著。 氪氣主要用于半導(dǎo)體存儲器件64層以上3D NAND高深寬比蝕刻工藝，在等離子狀態(tài)下與氧氣和其他氟碳?xì)怏w一起使用。日本鎧俠和韓國SK海力士是氪氣的主要客戶，氪氣需求量目前已經(jīng)接近全球可供應(yīng)量的50%。隨著5G、物聯(lián)網(wǎng)技更多 +
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常見的電子混合氣體組分|紐瑞德特氣
電子工業(yè)用氣體統(tǒng)稱為電子氣。在大規(guī)模集成電路（LSI）、超大規(guī)模集成電路（VLSI）、半導(dǎo)體和電子器件生產(chǎn)與加工過程中，電子氣主要用于氣相外延生長、化學(xué)氣相淀積、摻雜（雜質(zhì)擴散）、蝕刻、離子注入、濺射、退火、系統(tǒng)加壓、潔凈吹掃、吸氣覆蓋、氧化和還原等工藝。其中部分氣體直接作為半導(dǎo)體源，如硅源、硼源、磷源和CVD 源等等。 常見的幾種電子混合氣體： Oxygen in Tetrafluoromethane 4% O2/CF4 8% O2/CF4 1更多 +
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常見的5種電子混合氣體|紐瑞德特氣
氣體在半導(dǎo)體工業(yè)和微電子工業(yè)中扮演著不可或缺的角色，其中除了大家熟知的一些大宗氣體以外，還有一個重要的分支:電子混合氣體。電子混合氣體廣泛用于大規(guī)模集成電路（L.S.I）超大規(guī)模集成電路（V.L.S.I）和半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中，主要用于氣相外延（生成）、化學(xué)氣相淀積、摻雜（雜質(zhì)擴散）、各類蝕刻和離子注入等工藝中。 根據(jù)不同用途又可以將電子混合氣體分為：晶體生長氣、熱氧化氣、外延氣、摻雜氣、擴散氣、化學(xué)氣相淀積氣、噴射氣、離子注入氣、等離子蝕刻氣、載氣/吹洗氣、光刻氣、退火氣、焊更多 +
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六氟化硫氣體每公斤多少錢？|來紐瑞德獲取最新價格
六氟化硫氣體具有良好的電氣絕緣性能及優(yōu)異的滅弧性能。其耐電強度為同一壓力下氮氣的2.5倍，擊穿電壓是空氣的2.5倍，滅弧能力是空氣的100倍，是一種優(yōu)于空氣和油之間的新一代超高壓絕緣介質(zhì)材料。 六氟化硫以其良好的絕緣性能和滅弧性能，如：斷路器、高壓變壓器、氣封閉組合電容器、高壓傳輸線、互感器等。電子級高純六氟化硫是一種理想的電子蝕刻劑，被大量應(yīng)用于微電子技術(shù)領(lǐng)域。冷凍工業(yè)作為制冷劑，制冷范圍可在-45℃～0℃之間。 電氣工業(yè)利用其很高介電強度和良好的滅電弧性能，用作高更多 +
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四氟化碳組分氣體的氣相色譜試驗方法
四氟化碳用途廣泛，目前是微電子行業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體。它作為溫室氣體中的一個中類，可以通過多種途徑進(jìn)入水體、土壤、大氣中，對環(huán)境造成污染。目前的研究已充分證實了臭氧層的損耗與四氟化碳?xì)怏w在大氣中釋放的自由基有關(guān)。因此，為了準(zhǔn)確的評估四氟化碳的排放量，提供四氟化碳組分氣體的分析方法及準(zhǔn)確定值的方法，評價該類氣體物質(zhì)對自然環(huán)境以及經(jīng)濟(jì)發(fā)展的影響是當(dāng)前急需解決的問題！ 國家標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)研究中心對該組份氣體的制備方法、分析方法以及定值方法進(jìn)行了研究。通過研究確立氣體標(biāo)注物質(zhì)量值的復(fù)現(xiàn)程序及更多 +
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四氟化碳是什么？有什么用？
四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無機化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩(wěn)定，但是需要避免接觸強氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃?xì)怏w，如果遇到高熱后會造成容器內(nèi)壓增大，有開裂、爆炸危險。通常常溫下只會與液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。 四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，可廣泛用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等更多 +
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氙氣在芯片制造業(yè)中前途不可估量！
氙氣在電子芯片制造業(yè)中的最新使用 氙氣作為稀有氣體，目前國內(nèi)產(chǎn)量較低。跟著科技的開展，氙氣的使用領(lǐng)域越來越廣泛，首要使用于電光源、醫(yī)療、科研、航空航天等。 近年來，氙氣就被廣泛使用于電子芯片制造業(yè)，這也是目前氙需求增加及對氙投機生意的最重要原因。多家大型芯片制造商正使用氙氣等離子蝕刻，首要用于微電子機械系統(tǒng)（ MEMS ）的制造。MEMS 設(shè) 備可將微電子和微機械集成為一個全體，能在一塊芯片上制作更復(fù)雜及成效更強的電路。這種技術(shù)從根本上把電腦芯片（處理數(shù)據(jù)）和傳感器（搜集數(shù)據(jù)）結(jié)合到一個元件上，能夠批量出產(chǎn)，這更多 +
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